【爱国科技】重生一世，立志振兴大夏，打破M国封锁的李红旗却被诬陷剽窃国家机密而锒铛入狱，为了减刑，他上交了半纳米光刻机技术！
夏科院层层上报证实技术的可行性后，大夏高层震怒：“是谁敢害我国之栋梁！”
一声令下，十万武装部队、军队、坦克保卫监狱，迎接李红旗出狱。
此后，担任光刻机总工程师的李红旗一发不可收拾！可控核聚变、天基武器、空天母舰、智能战甲甚至二维折叠武器！
且看李红旗带领大夏重回世界之巅！
次日一早，
关押李红旗的门被打开，
张勋拉着李红旗去往了监狱北边区域的一间研究室。
“研究室内有监控，还有警卫在外巡逻。”
“今天这间研究室就属于你了，但是研究室的东西不能外带回监狱，我提醒你不要动歪脑筋，小心无期。”
李红旗点头，随即开始梳理。
系统给了自己技术和图纸，可并不是自己传到自己脑子里的，所以第一个难题就是需要李红旗自己去学习理解。
然后用自己的方式写出来。
打开系统给的文件，
眼花缭乱的公式、数字模型和图纸摆在自己的眼前。
光刻机的原理不难理解，就是通过特制的精密光学镜片，将激光器产生的高能激光投射在晶圆表面，精度需要达到纳米级别。
如今的光刻机难题在两个方面：
一、激光光源精度，随着芯片对高分辨率的要求越来越高，要求光源具有高精度、功率大的特点，而且需要光线路径真空化，而难点就在高精度和功率大上。
二、光学镜头，由于光刻机光源极短，容易溢散被玻璃吸收，所以光刻机必须使用全反光的特殊镜头，称为布拉格反射器。
而因为纳米级别的激光，镜头的精度也被要求到一个可怕的程度，即使是五纳米的光刻机精头，其镜头的规格也到了反射率99.998％，直径30厘米，凹凸面幅度不超过0.3纳米！